中微推出12寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW

　　5月9日消息，近日，中微半导体设备（上海）有限公司推出了自主研发的12英寸低压化学气相沉积（LPCVD）设备Preforma  Uniflex  CW。设备最多可灵活配置5个双反应室（十个反应室），每个反应室可同时处理两片晶圆，实现更高的生产效率。